15
等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、二氧化碳、氫氣、四氟化碳等。它是將氣體電離產生等離子體對工件進行表面處理,無論是進行清洗還是表面活化,為達到z佳的處理效果會選用不同的工藝氣體,那么清洗機的常用工藝氣體又該如何選擇呢?本文為大家分享一下相關基礎知識,供大家參考。氧氣是等離子清洗常用的活性氣體,屬于物理+化學的處理方式,電離后產生的離子體能夠對表面進行物理轟擊,形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發生化學反應形成活性基團的親水表面,達到表...
查看更多13
為保證銅引線框架即銅支架在打線和封塑時可靠性,提升良率,通常會使用等離子清洗機對銅支架進行等離子清洗,其等離子處理的效果受多重因素影響,以往大家關注會集中在銅支架自身以及所選用的等離子清洗機設備及參數。但其實料盒本身的幾方面因素也會對等離子處理的效果有不小的影響。1、規格尺寸:不同規格尺寸的銅引線框架所對應使用的料盒尺寸也是不同的,而料盒尺寸對等離子清洗處理的效果有一定關系,通常來說,料盒的尺寸越大,等離子體進入料盒內部的時間就會越長,對等離子處理的均勻性及效果有所影響。2)...
查看更多11
為了更好的告訴大家等離子清洗機為什么能使材料表面具有親水性,首先我們大致的來了解下親水性。親水性定義:帶有極性基團的分子,對水有大的親和能力,可以吸引水分子,或溶解于水。這類分子形成的固體材料的表面,易被水所潤濕。具有這種特性都是物質的親水性。親水性指分子能夠透過氫鍵和水形成短暫鍵結的物理性質。因為熱力學上合適,這種分子不只可以溶解在水里,也可以溶解在其他的極性溶液內。一個親水性分子,或說分子的親水性部份,是指其有能力極化至能形成氫鍵的部位,并使其對油或其他疏水性溶液而言,更...
查看更多7
等離子清洗機是一種依靠處于“等離子態”的物質的“活化作用”,來去除物體表面污漬的一種清洗設備。它屬于電子工業清洗中的干法清洗,過程中需要真空泵制造一定的真空條件滿足清洗所需,等離子清洗所需要的等離子體主要通過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生,像低壓氣體輝光等離子體。簡單地如開頭說,等離子清洗需要在真空狀態下進行(一般需保持在100Pa左右),所以需要真空泵進行抽真空作業。其主要過程包括:首先將需要清洗的工件送入真空室固定,啟動真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右...
查看更多5
等離子清洗機表面改性原理:等離子體作為物質的(除固態、液態、氣態之外)第四種狀態,是氣體部分或*電離產生的非凝聚體系,一般都包含自由電子、離子、自由基和中性粒子等、體系內正負電荷數量相等,宏觀上呈電中性。在材料表面改性中,主要是利用低溫等離子體轟擊材料表面,是材料表面分子的化學鍵被打開,并與等離子體中的自由基結合,在材料表面形成極性基團,這首先需要低溫等離子體中的各類離子具有足夠的能量以斷開材料表面的舊化學鍵。除離子外,低溫等離子體中絕大多數粒子的能量均高于這些化學鍵的鍵能。...
查看更多29
等離子清洗機對粉體的處理包括3大方面:提升粉體顆粒的親水性、輔助氣相沉積、提升粉體顆粒接枝聚合的能力。粉體提升親水性使用等離子處理,其主要過程是用如He、Ar等和反應性氣體如O2、CO2、NH3等對粉體的顆粒表面進行物理或者化學反應的過程。在處理的過程中,等離子體中間的粒子會和顆粒表面產生作用,對粉體顆粒產生刻蝕或者降解,在顆粒表面形成活性基團,提升粉體顆粒表面的親水性氣相沉積的過程有點類似于電鍍,只不過電鍍是用水,而氣相沉積用的是氣相沉積。很多顆粒直接采用氣相沉積效果不理想...
查看更多21
隨著半導體技術的不斷發展,對工藝技術的要求越來越高,特別是對半導體圓片的表面質量要求越來越嚴,其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質沾污會嚴重影響器件的質量和成品率,在目前的集成電路生產中,由于圓片表面沾污問題,仍有50%以上的材料被損失掉。在半導體生產工藝中,幾乎每道工序中都需要進行清洗,圓片清洗質量的好壞對器件性能有嚴重的影響。正是由于圓片清洗是半導體制造工藝中重要、頻繁的工步,而且其工藝質量將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性,所以國內外各大公司、研究機構等對清洗工藝的...
查看更多17
高分子材料同金屬材料相比具有許多優點,如密度小、比強度和比模量低、耐蝕性能好、成型工藝簡單、成本低廉、優異的化學穩定性、熱穩定性好、介電性能、極低的摩擦系數、良好的潤滑作用及優異的耐候性等,因此廣泛應用于包裝、印刷、農業、輕工、電子、儀表、航天航空、醫用器械、復合材料等行業。但其應用范圍和使用效益往往會受到表面性能的制約,因此常常需按使用目的改善或變換其表面性能,如材料或部件的粘著性,高分子膜的印刷性、透過性等,這時候就需要使用等離子清洗機了。為了使高分子材料適合各種應用需要...
查看更多Copyright © 2025 嘉潤萬豐(北京)科技有限公司版權所有 備案號:京ICP備13049909號-2
技術支持:化工儀器網 管理登錄 sitemap.xml